REM – FEI Versa 3D DualBeam

Technische Spezifikationen

Versa Dual Beam
  • Hochauflösendes Feldemissions-Raster-Elektronenmikroskop mit Schottky Emitter, inkl. Kryo-Einheit von Quorum
  • Vergrößerung: 30 x – 1280 kx im „Quad“-Modus
  • Auflösung Elektronenstrahl:
    • 2 nm bei 30 kV
    • 9 nm bei 1 kV
  • Ionenstrahlauflösung:
    • 7 nm bei 30 kV am Strahlkoinzidenzpunkt (5 nm erreichbar bei optimalem Arbeitsabstand)
  • Standard 5-Achsen Motortisch:
    • X, Y: 110 mm
    • Z: 65 mm motorisiert
    • T: -15° bis +90°
    • R: n x 360° (endlos)
    • X, Y-Wiederholbarkeit: 2,0 μm
    • Probengewicht: 500 g in jeder Tischposition (bis zu 2 kg bei 0 Grad Neigung)
    • Maximaler Abstand zwischen Stufe und Koinzidenzpunkt: 85 mm auf euzentrischer Höhe
    • Maximale Probengrösse: – 150 mm Durchmesser bei voller Drehung (größere Proben mit eingeschränkter Rotation möglich)

Detektoren und Mikroanalyse

  • Everhart-Thornley SE-Detektor (ETD)
  • Einziehbarer Niederspannungs- und Rückstreuelektronendetektor
  • IR-Kamera zum Betrachten der Probe/Säule
  • Hochleistungs SE- und SI- (Sekundärionen) Detektor (ICE)
  • Detektor für energiedispersive Röntgenstrahlspektroskopie (Apollo EDX) mit Genesis & Team Software (EDAX)

Typische Applikationen und Zubehör

  • Abbilden, Analysieren, Fräsen und Strukturierung von Proben bis in den Nanometerbereich
  • TEM lift out / TEM lamella
  • Nanofabrikation und Mikromanipulation
  • Multiples Gasinjektionssystem für Au- und Pt-Abscheidung
  • Micromanipulator von Kleindiek

Standort

Pharmazentrum, U1007