REM – Zeiss FIB-SEM Crossbeam 550

Crossbeam 550

Technische Spezifikationen

  • Extra große Probenkammer mit 520 mm Innendurchmesser und 307 mm Höhe
  • Airlock 80 mm Schleusenöffnung
  • Navigationskamera (an der 80 mm Schleuse angebracht), für die Bildaufnahmen von Proben für SmartSEM Image
  • motorisierter 6-Achsen und super-euzentrischer Probentisch
  • Probentischbewegungen: XY 153 mm, Z 50 mm
  • Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop (FE-REM) mit patentierter GEMINI® II-Elektronenoptik für schnelle und hochauflösende Analytik und Abbildung. Das FE-REM ist ausgelegt für den Betrieb mit einem fokussierten Ga-Ionenstrahl (Ga-FIB)
  • Die SEM Säule kann zur Steigerung der Auflösung Emitter-seitig in einen speziellen Hochauflösungs Modus (High resolution Gun Mode) umgeschalten werden
  • Auflösung mit dem Elektronenstrahl:
    • 0.6 nm bei 30kV STEM (optional)
    • 0.7 nm bei 15 kV
    • 1.4 nm bei 1kV
    • 1.2 nm bei 1kV mit Tandem Decel Option
    • 1.3 nm bei 200V mit Tandem Decel Option
    • Auflösung im Koinzidenzpunkt FE-REM/Ga-FIB: 0.9 nm bei 15kV, 1.8 nm (1.3 nm bei 1kV mit Tandem Decel Option)
    • Beschleunigungsspannung: 20 V – 30 kV
    • Strahlstrom: 10 pA – 40 nA 
  • FIB-Ion-sculptor:
    • Optimale laterale Auflösung: 3 nm bei 30 kV
    • Energiebereich: 500 V – 30 kV
    • Strahlstrom: 1 pA – 100 nA

Detektoren und Mikroanalyse

  • Kammer-Sekundärelektronendetektor (Everhart-Thornley)
  • In-lens SE-Detektor
  • In-lens EsB Detektor: Energieselektive Detektion von Rückstreuelektronen
  • Pneumatisch rückziehbarer, hoch-effizienter, annularer 5-Sektor-BSE Halbleiterdetektor. Der äußere Ring besteht aus 4 Vierteln, die die Aufnahme von topographischem Kontrast ermöglichen
  • Oxford Instruments EDS System: AZtecLive Standard mit Ultim Max Infinity (Sensorgrösse 170 mm2)

Typische Anwendungen und Zubehör

  • Abbilden, Analysieren, Fräsen und Querschneiden von Proben im Nanometerbereich
  • TEM Lamellen: "lift out" und Ausdünnung
  • Gasinjektionssystem für C Ablagerung (FEBID und FIBID)
  • Gas Kartusche für erhöhten Materialabtrag (Wasser): MgSO₄ x 7 H₂O
  • Nanofabrikation and Mikromanipulation

Standort

Pharmazentrum, U1039

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